氧气流量对射频磁控溅射制备Cu2O薄膜性能的影响

摘要：

通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu2O薄膜,采用X射线衍射(XRD)、分光光度计、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)等研究了氧气流量对Cu2O薄膜性能的影响.结果表明:氧气流量为4.2 sccm时,薄膜为单相的Cu2O,具有较高的结晶质量和可见光透过率,光学带隙为2.29 eV,薄膜的导电类型是p型且空穴浓度为2×1016 cm-3.通过XPS能谱分析Cu 2p3/2和O 1s结合能,确定了薄膜中Cu以+1价存在.

关键词：氧化亚铜、磁控溅射、电阻率、光透射率、氧气流量

所属期刊栏目：39

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2006AA03Z219;南京航空航天大学基本科研业务费专项科研项目NS2010160

在线出版日期：2011-01-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1221-1226