直流电弧等离子体CVD金刚石膜中氢杂质研究
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直流电弧等离子体CVD金刚石膜中氢杂质研究

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运用傅里叶红外光谱(FT-IR)和核反应分析(NRA)对直流电弧等离子体制备的金刚石膜中的氢杂质进行了研究,并通过添加少量空气到反应气体的实验分析了氢杂质的变化.研究结果发现:红外光谱只能检测金刚石膜中的成键氢,其含量随着氮渗入量的增加而增加,并得出2820 cm~(-1)处的吸收是由氮结合的CH基团振动引起的,2832 cm~(-1)处的吸收可能是由金刚石膜特征结构缺陷结合的CH基团振动引起的,而不是氧相关的基团.核反应分析可以检测金刚石膜中的总氢含量,近表面小于50 nm层氢含量变化快,大于50 nm之后氢含量趋于稳定,此值认为是金刚石膜中的总氢含量.

CVD、金刚石膜、氢杂质、FT-IR、核反应分析

39

O77+5(晶体缺陷)

国家自然科学基金50572007;博士点基金资助项目20040008018

2010-05-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

48-51,56

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1000-985X

11-2637/O7

39

2010,39(1)

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