圆柱形和椭球形谐振腔式MPCVD装置中微波等离子体分布特征的数值模拟与比较
在使用简化的等离子体放电模型的基础上,模拟了圆柱形和椭球形谐振腔式微波等离子体金刚石膜沉积设备中,不同金刚石膜生长条件下微波等离子体的分布状态.对不同的微波输入功率、不同气体压力条件下,两种谐振腔式设备中形成的等离子体分布的变化规律进行了模拟.模拟结果表明,椭球形谐振腔的质量因子要高于圆柱形谐振腔;并且,椭球形谐振腔更适合用于高功率、高压力的金刚石膜沉积环境.这意味着,使用椭球形谐振腔,可获得更高的金刚石膜生长速率.
金刚石膜、微波等离子体、FDTD方法、数值模拟
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O484(固体物理学)
国家自然科学基金10675017
2008-09-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共7页
895-900,907