热丝法低温制备多晶硅薄膜微结构的研究

摘要：

采用热丝化学气相沉积法(HFCVD)在普通玻璃衬底上低温沉积多晶硅薄膜.利用XRD、拉曼光谱和原子力显微镜(AFM)研究了灯丝与衬底间距(5～10mm),灯丝温度(1800～1400℃)和衬底温度(320～205℃)对薄膜晶体取向、晶化率、晶粒尺寸以及形貌的影响规律.结果表明,随着热丝与衬底间距增加,多晶硅薄膜的晶化率和晶粒尺寸明显减小;随热丝温度的降低,薄膜的晶化率都出现了大致相同的规律:先不断增大后突然大幅减小.

关键词：热丝化学气相沉积、多晶硅薄膜、择优取向、晶化率、晶体形貌

所属期刊栏目：36

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

资助基金：教育部留学回国人员科研启动基金082038

在线出版日期：2008-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1372-1376,1398