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10.3969/j.issn.1000-985X.2007.04.025

等离子体还原SiCl4一步法制备多晶硅实验研究

引用
区别于改良西门子法、硅烷法、碳热还原法、区域熔炼法等多晶硅生产工艺,利用等离子体技术,建立了以硅的氯化物为原料,一步法制备多晶硅的实验装置和工艺流程,并在此基础上进行了粒状多晶硅制备的实验.实验表明,SiCl4单程转化率超过70%,多晶硅选择性60%.利用XRD、SEM、AS等分析手段,对所得产物进行了表征.与纯度为7个9的多晶硅标样的比较表明,实验产物达到了太阳能级.此方法为多晶硅生产极大地放宽了原料选择条件,为低成本生产太阳能级多晶硅提供了一种新的途径.

多晶硅、等离子体、四氯化硅、一步法、西门子法

36

O782(晶体生长)

2007-10-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

828-831

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1000-985X

11-2637/O7

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2007,36(4)

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