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10.3969/j.issn.1000-985X.2007.01.029

衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的光学和电学特性的影响

引用
利用脉冲激光沉积法(PLD)在c面蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜并对其进行了X射线衍射(XRD)、反射式高能电子衍射(RHEED)、光致发光(PL)谱和霍尔(Hall)测试.RHEED和XRD分析表明,温度在350℃至550℃之间时,ZnO薄膜的结晶质量随着衬底温度的升高而提高,当衬底温度进一步升高后,ZnO薄膜的结晶质量开始下降.四个样品中,衬底温度为550℃的样品具有最清晰的规则点状RHEED图像和半高宽最窄的(0002)衍射峰.PL谱和Hall测量的结果表明,衬底温度为550℃的样品还具有最好的发光性质和最大的霍尔迁移率.

ZnO薄膜、脉冲激光沉积、衬底温度

36

O78(晶体生长)

国家自然科学基金50532080;辽宁省科技计划20022133

2007-04-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

129-133

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人工晶体学报

1000-985X

11-2637/O7

36

2007,36(1)

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