10.3969/j.issn.1000-985X.2006.05.011
用射频磁控溅射法在c-BN晶体基底上生长c-BN薄膜
本文用射频磁控溅射方法在片状c-BN晶体基底上生长了c-BN薄膜,显微拉曼光谱(μ-RS)和扫描电子显微镜(SEM)测试结果表明:沉积的薄膜是大约10μm厚、高结晶性、电子透明的高纯c-BN薄膜.岛状和层状生长模式在试验中清晰的展示出来.同时在生长的c-BN薄膜内部和被遮盖的基底部分上发现了籽晶.
高结晶度、生长速率、生长模式
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O78(晶体生长)
2006-11-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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