分层沉积GaAs/SiO2纳米薄膜的结构和吸收光谱

摘要：

应用射频磁控溅射方法分别在抛光硅片和石英玻璃片上分层沉积了GaAs/SiO2纳米薄膜.通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)及吸收光谱的测试,发现衬底温度、退火、氢掺杂等制备工艺对分层沉积的GaAs/SiO2纳米薄膜的微观结构和光学性质有明显的影响.本文对相关机理作了探讨.

关键词：射频磁控溅射、GaAs/SiO2纳米薄膜、氢掺杂、吸收光谱

所属期刊栏目：35

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：广东省自然科学基金04011770;广东省江门市科技计划江财企2003.61

在线出版日期：2006-07-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：630-634