快速退火对PZT铁电薄膜结构的影响

摘要：

采用射频磁控溅射方法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备出(PZT)铁电薄膜,在550℃、600℃、650℃、700℃几个温度下对薄膜进行了快速退火热处理,并在退火处理后用X射线衍射、原子力显微镜和热释电系数测试系统研究了PZT铁电薄膜的薄膜结构、表面形貌及热释电性能.在650℃快速退火后,PZT铁电薄膜已经形成较好的钙钛矿相结构,并获得了较好的热释电性能,热释电系数达到1.5×10-8C·cm-2·k-1.

关键词：锆钛酸铅、铁电薄膜、快速退火、X射线衍射、原子力显微镜

所属期刊栏目：35

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：云南省自然科学基金2002C0008Z

在线出版日期：2006-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：415-419