不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

摘要：

在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究.实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度.在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2.低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大.

关键词：碳纳米管膜、场发射、MPCVD、拉曼光谱

所属期刊栏目：34

分类号：O462.4(真空电子学（电子物理学）)

在线出版日期：2005-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：954-959