10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.015
铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展
综述了铁电薄膜/半导体异质结构研究近年来的新进展.重点介绍了异质结构制备工艺的改进和界面的最新研究状况.简单叙述了全钙钛矿异质结构的发展情况.指出了铁电薄膜/半导体异质结构研究领域需要解决的一些问题.
铁电薄膜、异质结构、缓冲层、界面、全钙钛矿
34
O484(固体物理学)
2005-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
450-453,486
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10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.015
铁电薄膜、异质结构、缓冲层、界面、全钙钛矿
34
O484(固体物理学)
2005-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
450-453,486
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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