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10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.015

铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展

引用
综述了铁电薄膜/半导体异质结构研究近年来的新进展.重点介绍了异质结构制备工艺的改进和界面的最新研究状况.简单叙述了全钙钛矿异质结构的发展情况.指出了铁电薄膜/半导体异质结构研究领域需要解决的一些问题.

铁电薄膜、异质结构、缓冲层、界面、全钙钛矿

34

O484(固体物理学)

2005-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

450-453,486

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人工晶体学报

1000-985X

11-2637/O7

34

2005,34(3)

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