10.3969/j.issn.1000-985X.2005.02.005
ZnSe单晶生长及性能研究
采用物理气相输运法对ZnSe(4N)多晶原料在850℃±10℃进行提纯,再用高压坩埚下降法在1530℃、氩气保护气氛下生长出高质量ZnSe单晶体.研究了提纯过程温度的选择以及氧含量和压力对于晶体生长的影响.对生长出的单晶体进行均匀性测试表明ZnSe单晶完整性和均匀性良好.对ZnSe单晶进行光学性能测试分析表明ZnSe单晶的折射率高,吸收系数低,红外透过率大于70%.
ZnSe单晶、物理气相输运法、高压坩埚下降法、透过率
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O736(晶体物理)
兵器工业总公司资助项目GDZX2003
2005-06-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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