DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究

摘要：

在100kW级DC Plasma Jet CVD设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构.研究表明:不同取向的晶面在膜体中的分布不同,但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的,在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构;薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小,且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大;具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面.

关键词：自支撑CVD金刚石薄膜、晶面取向、内应力、表面粗糙度

所属期刊栏目：34

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA305508;教育部留学回国人员科研启动基金;北京市科技新星计划项目

在线出版日期：2005-03-31（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：21-24