改善Nd:YVO4晶体光学均匀性的工艺研究

摘要：

以浓度分布差小和退火后光学均匀性好为目的,通过改造温场,分阶段调整生长界面、搅拌速度、提拉速度、温度、时间等工艺参数,改善了Nd:YVO4激光晶体的光学质量和光学均匀性.

关键词：Nd:YVO4晶体、浓度分布、光学质量

所属期刊栏目：33

分类号：O782.5(晶体生长)

在线出版日期：2004-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：241-243