Fe-Ti-N薄膜的结构和性能研究

摘要：

Fe-Ti-N薄膜在高溅射功率900W下用RF磁控溅射方法制备,膜厚为630～780nm.当氮含量在Fe-Ti(3.9at.%)-N(8.8at.%) 和 Fe-Ti(3.3at.%)-N(13.5at.%)范围内,薄膜由α′和Ti2N沉淀组成,4πMs超过纯铁,最高可达2.38T;而 Hc下降为89A/m,可以满足针对10Gb/in2高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.

关键词：Fe-Ti-N薄膜、结构、磁性

所属期刊栏目：31

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金19890310

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：481-485