YVO4晶体缺陷分析
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10.3969/j.issn.1000-985X.2002.01.004

YVO4晶体缺陷分析

引用
运用同步辐射白光X射线形貌术分析了YVO4的结构和缺陷行为,也观测了YVO4晶体(001)、(100)面的缺陷.发现在(001)面出现应力生长区、沿[100]方向的位错线以及晶体中镶嵌结构.运用白光形貌术拍摄到的劳埃斑,证明晶体为四方晶系.确定了小角晶界是引起多晶的主要原因.采用电子探针仪分析了散射颗粒形成是由杂质铁和铝的引入造成.

YVO4晶体、缺陷、同步辐射白光X射线形貌术、电子探针仪

31

O774(晶体缺陷)

国家自然科学基金60047003

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

14-17

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人工晶体学报

1000-985X

11-2637/O7

31

2002,31(1)

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