10.3969/j.issn.1000-985X.2000.03.018
微波等离子化学气相沉积金刚石膜涂层氮化硅刀具
金刚石的成核和生长影响金刚石膜的质量.本文用自制的一种新型的不锈钢谐振腔型微波等离子CVD设备,等离子直径为76mm,均匀的温度分布使得金刚石膜均匀生长,在不同工艺条件下研究Si3N4陶瓷刀具上金刚石涂层的成核质量,用SEM,Raman检测和分析研究了在Si3N4刀具上高速高质量生长金刚石膜涂层的制备工艺,并检测了涂层刀具的切削性能,切削试验表明,在切削18wt%Si-Al合金时,金刚石涂层刀具比未涂层刀具的使用寿命增多10倍以上.
金刚石涂层刀具、微波等离子化学气相沉积、干切、氮化硅
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TQ711;O781
湖北省自然科学基金99J070;国家重点实验室基金99-7
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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