高温对生长在加富CO2条件下水稻离体叶片叶绿素荧光的影响

摘要：

4个水稻品种IR72、桂朝2号、特三矮2号和Ⅱ优4480栽种于两种CO2浓度(350μL-1、600 μl L-1)下,将其离体叶片经不同温度(30、35、40、45、50℃)处理30 min后,其细胞膜渗漏率随处理温度的升高而上升,IR72和桂朝2号在40-45℃之间有一个急剧上升的折点,而特三矮2号和Ⅱ优4480的折点则在45-50℃之间.Fv/Fm、Fv/Fo、φPSⅡ和qP随处理温度的升高而下降,qN则先升后降.特三矮2号和Ⅱ优4480的这些荧光参数随温度的变化较IR72和桂朝2号相对平缓些.结果表明特三矮2号和Ⅱ优4480比IR72和桂朝2号有较强的抗高温能力.生长在高CO2浓度下的水稻,叶片经高温处理后,其细胞膜渗漏率大于生长在对照空气中的叶片,但两者的叶绿素荧光参数则没有明显差别.

关键词：水稻、加富CO2、高温、细胞膜渗漏率、叶绿素荧光参数

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分类号：Q945.11(植物学)

资助基金：广东省自然科学基金970653;国家重点基础研究发展计划973计划G1998010100

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：91-96