10.13726/j.cnki.11-2706/tq.2015.11.032.05
AZ91D镁合金微弧氧化膜的制备工艺研究
在NaAlO2电解液体系中,采用自制微孤氧化成套设备对AZ91D镁合金进行微弧氧化.采用5因素4水平正交设计试验法,以膜层厚度和耐蚀性为指标,综合考察了各因素对膜层结构和性能的影响,确定最佳工艺条件为20g/L NaAlO2,7g/L Na2B4O7,频率500Hz,正占空比20%,氧化时间30min.对该工艺下制备的微弧氧化膜层进行SEM、XRD分析,膜层含有较多的MgAl2O4、MgO和Al2O3晶体相;相对基体而言,微弧氧化膜层耐蚀性提高2~3个数量级.动电位极化曲线及电化学交流阻抗测试进一步表明,AZ91D镁合金微弧氧化后,其耐蚀性明显提高.
AZ91D镁合金、微弧氧化、正交试验、NaAlO2、耐蚀性
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TG174.451(金属学与热处理)
国家自然科学基金项目U1333103;四川省青年科技基金项目2014JQ0036;四川理工学院人才引进项目2012RC06;国家级大学生创新创业训练计划项目201310622006
2015-12-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
32-36,46