基于Yb∶LCB晶体产生590 nm激光的谐振腔镀膜研究
自倍频激光晶体同时具有激光及非线性光学性质，可在单个晶体器件中完成激光和倍频过程。该类晶体制备的激光器具备结构简单、体积小、稳定性好等优点，可满足现代化信息社会对高集成光电器件的要求。晶体镀膜是激光晶体得以应用的重要环节。依据Yb∶La2CaB10O19(Yb∶LCB)晶体特性、技术参数及光学薄膜设计理论，选择Ta2O5和SiO2分别作为高、低折射率材料，利用OptiLayer和Zygo干涉仪表征薄膜的光学性能和表面粗糙度，分析了离子源偏压对折射率和表面粗糙度的影响规律，并确定了离子源参数。采用光学监控和石英晶控相结合的方式，精准控制各膜层厚度，降低薄膜厚度的监控误差。测试结果表明，制备的Yb∶LCB晶体器件成功应用于590 nm激光输出系统。
材料、薄膜、自倍频晶体、离子辅助沉积、光学监控、materials、thin films、self-frequency doubling crystal、ion assisted deposition、optical monitoring
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TN248.1;O441.4;TN628.1
2022-10-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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