X光弯晶成像金属薄膜面密度测量技术

摘要：

针对靶用高Z金属薄膜的无损检测需求,提出了一种通过超环面弯晶聚焦型X光单能成像器件,实现金属薄膜均匀性及面密度等参数精确标定的测量技术.该技术即通过高通量、高单能性成像,定量获取薄膜X光透过率及其空间分布,有效提升了面密度测量的精度,同时实现了对其均匀性的高空间分辨评估.从总体方案设计、元器件制备和测试实验等方面开展了深入研究,并评估了各种可能因素对测量不确定度的影响.所发展的超环面弯晶成像系统针对 20 keV级的高能X射线在mm尺度内实现了优于5μm的微区分辨,能谱分辨达到几eV.通过泡沫金样品面密度测量实验证明了技术可行性,相对不确定度优于 2%.研究结果为激光惯性约束聚变高Z靶材料的精密无损检测提供了一种新的测量技术,并有望应用于其他需要大视场、高空谱分辨成像的需求领域.

关键词：金属薄膜、X射线成像、超环面弯晶、高谱分辨、面密度测量

所属期刊栏目：35

分类号：O434.1(光学)

资助基金：国家自然科学基金;国家重点研发计划

在线出版日期：2023-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：43-49