基于光斑二阶矩的阵列光束倾斜相差自适应控制方法

摘要：

针对阵列光束相干合成中存在的倾斜相差大的问题,提出了基于合成光束远场光斑二阶矩的阵列光束倾斜相差自适应控制方法.以合成光束远场光斑二阶矩作为评价函数,理论上模拟了采用随机并行梯度下降算法实现 7路光束的倾斜闭环控制过程.实验上搭建了 7 路光纤激光相干合成系统,利用自适应光纤准直器对倾斜相差进行校正.以合成光束远场光斑的二阶矩作为评价函数,采用随机并行梯度下降算法,实现了7 路光束的倾斜的闭环控制,合成光束模拟远场光斑的桶中功率由 0.05 V提升至 1.95 V.实验中将倾斜扰动的增益系数变为与二阶矩相关的函数,实现了自适应变增益系数的倾斜闭环,在一定程度上提升了倾斜控制的带宽.从理论上和实验上验证了基于光斑二阶矩的倾斜相差自适应控制方法在光束合成及合成孔径探测领域应用的可行性.

关键词：相干合成、倾斜控制、光斑二阶矩、阵列光束、随机并行梯度下降算法

所属期刊栏目：35

分类号：O43(光学)

资助基金：国家自然科学基金61905229&61805224

在线出版日期：2023-04-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：117-122