退火对EBE,IBS和ALD沉积HfO2薄膜的抗激光损伤性能影响

摘要：

结合自身实验条件采用电子束蒸发(EBE)、离子束溅射(IBS)和原子层沉积(ALD)三种工艺制备了HfO2薄膜,对其进行退火实验,采用1064 nm Nd:YAG激光测定了即时沉积和退火后各HfO2薄膜的抗激光损伤能力.研究发现,ALD HfO2薄膜的激光损伤阈值最高,EBE HfO2薄膜次之,IBS HfO2薄膜的损伤阈值最低;300℃退火对各工艺薄膜抗激光损伤能力的影响均为负面,500℃退火则会显著降低ALD HfO2薄膜的抗激光损伤能力.

关键词：HfO2薄膜、激光损伤阈值、电子束蒸发、离子束溅射、原子层沉积

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资助基金：深圳市科技计划基础研究面上项目 JCYJ20190807142405649

在线出版日期：2020-07-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：7-14