摆动刻蚀法制作高衍射效率凸面闪耀光栅

摘要：

通过摆动离子束刻蚀方法,制作了用于短波红外高光谱成像光谱仪的凸面闪耀光栅.该方法通过在光栅子午方向上进行摆动刻蚀,解决了凸面光栅子午方向的闪耀角一致性问题.建立了摆动刻蚀模型来分析摆动速度、束缝宽度等工艺参数对槽型演化的影响,并计算了优化的刻蚀工艺参数.制备了基底尺寸为67 mm,曲率半径为156.88 mm,刻线密度为45.5 gr/mm,闪耀角为2.2°的凸面闪耀光栅,并对其表面形貌及衍射效率进行了测量.实验结果表明,摆动刻蚀法能够制作出闪耀角一致性好、衍射效率高的小闪耀角凸面光栅,满足成像光谱仪对光谱分辨率和便携性的使用要求.

关键词：凸面闪耀光栅、摆动刻蚀、衍射效率、成像光谱仪

所属期刊栏目：31

分类号：TH744.1;O433.1(仪器、仪表)

资助基金：中国科学院重大科研装备研制项目YZ201005;国家重大科学仪器设备开发专项2011YQ120023

在线出版日期：2019-06-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：3-11