脉冲激光沉积制备MgxNi1-xO合金薄膜的表征及光学性质研究

摘要：

应用脉冲激光沉积(PLD)技术,固定脉冲激光能量密度为5 J/cm2,调节薄膜生长基底温度为300～700℃,制备了系列MgxNi1-xO合金薄膜.通过透射电子显微镜(TEM)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微术(AFM)等表征分析手段,详细分析了薄膜的成分及组织,研究了退火处理对样品的影响.通过UV-Vis分光光度计研究了透射光谱,结合理论计算了光学带隙宽度.结果表明:薄膜由非晶及多晶构成,紫外吸收边约为290 nm,接近日盲波段的上限;衬底温度为500℃、激光脉冲能量密度为5 J/cm2时生长的薄膜在短波部分吸收强烈,而长波部分几乎不吸收,有利于紫外探测;退火处理改善了样品表面质量,但不能有效拓宽光学带隙.

关键词：脉冲激光沉积、合金薄膜、光学带隙、退火处理

所属期刊栏目：30

分类号：TG174.44;O469(金属学与热处理)

资助基金：中国工程物理研究院精密制造实验室创新基金项目ZZ16007

在线出版日期：2018-07-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：14-17