数百千伏电压下杆箍缩二极管模拟
为了探索杆箍缩二极管(RPD)在冲击加载下物质低密度区成像应用中的可行性,开展了低电压(≤500 kV)运行条件下 RPD箍缩物理特性模拟研究.基于Particle-in-cell(PIC)模拟方法,从二极管加载电压幅值、阴极盘厚度、阴阳电极孔径比等方面开展了二极管模拟,从电子箍缩效率、质子流、电子利用率、电场和磁场分布等角度对箍缩物理过程进行了分析.模拟表明:低电压运行条件下普通结构二极管电流较低,不能为电子提供足够的磁场力从而导致较低的电子箍缩效率;采用组合杆结构,并优化阳极杆到轫致辐射靶区的过渡区设计,是在低电压条件下实现小焦斑、高剂量辐射光源的值得探索的技术途径.
杆箍缩二极管、PIC模拟、闪光照相、箍缩效率、辐射成像
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O434(光学)
中国工程物理研究院流体物理研究所发展基金项目SFZ20150202
2018-05-11(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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