熔石英元件HF刻蚀的实验研究
为深入了解熔石英元件化学刻蚀过程,研究了HF刻蚀反应机理、HF刻蚀工艺参数以及刻蚀对表面质量的影响规律.通过控制变量法,获得刻蚀速率随HF浓度、刻蚀温度以及NH4F浓度的变化规律.对刻蚀不同深度后的元件表面粗糙度、形貌、杂质含量以及激光损伤阈值进行了检测,实验结果表明:刻蚀速率受多种因素共同影响,其中HF浓度的促进作用最为显著;刻蚀后的熔石英表面形貌复杂,有横向、纵向、拖尾等形式的划痕,以及坑点、杂质等缺陷,其中横向划痕和纵向划痕占据了缺陷部分的主体,主要杂质铈元素随刻蚀时间的增长不断减少;激光损伤阈值测量实验表明,通过HF刻蚀将元件损伤阈值提高了59.6%.
光学制造、熔石英、化学刻蚀、亚表层缺陷、激光诱导损伤
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TN244(光电子技术、激光技术)
科学挑战专题资助项目JCKY2016212A506-0503;国家自然科学基金项目51475106;中国工程物理研究院超精密加工技术重点实验室开放基金项目KF14007
2017-11-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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