13 nm 窄带 Si/Mo/C 多层膜反射镜
基于多层膜准单色覆盖50~1500 eV 能谱的多能点发射光谱测量系统可获得“聚龙一号”装置Z-pinch 等离子体 X 射线源的能谱结构和总能量等信息。考虑装置的条件，在13 nm 处的多层膜需要工作在掠入射角60°。常规的 Mo/Si 多层膜尽管反射率最高，但其带宽较大，不能满足多层膜准单色的要求。因此提出将 Mo 和 C 共同作为多层膜的吸收层材料与 Si 组成 Si/Mo/C 多层膜，可使反射率降低较小而带宽明显减小。采用磁控溅射方法制备了 Si/Mo/C 多层膜，其掠入射 X 射线反射测量表面多层膜的结构清晰完整，同步辐射工作条件下反射率测量，得到 Si/Mo/C 多层膜在13 nm 处和掠入射角60°时的反射率为56.5%，带宽为0.49 nm(3.7 eV)。
多层膜、Mo/Si、Si/Mo/C、Z-pinch、光谱诊断、反射率、带宽
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O434.2(光学)
国家自然科学基金项目11443007,11505129,U1430131;国家重大科学仪器设备开发项目2012YQ13012505,2012YQ24026402;上海市浦江人才计划15PJ1408000
2016-12-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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122002-1-122002-6
