紫外辐照对聚醚酰亚胺薄膜介电性能的影响
研究了不同紫外辐照时间对聚醚酰亚胺(PEI)薄膜介电性能的影响。采用 FT-IR 和 SEM 表征了 PEI 薄膜的分子结构和微观形貌。结果表明,紫外辐照后 PEI 薄膜在1742 cm-1处的吸收峰比原薄膜增大,说明 PEI 分子链中的 C=O 基团随辐照时间的增加而增加,并在薄膜表面产生了微裂纹。对 PEI 薄膜的介电性能进行的研究结果表明,随着紫外辐照时间的增加,PEI 薄膜的介电常数和介电损耗增大,而表面电阻率下降,体积电阻率基本不变。并随紫外辐照时间的增加,直流击穿强度呈先增加后降低的趋势,一定辐照剂量可使薄膜发生交联反应,使击穿场强较原薄膜提高20%以上。
聚醚酰亚胺、紫外辐照、介电常数、介电损耗、表面电阻率、直流击穿场强
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TM215.3(电工材料)
2016-05-04(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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