严格电磁场波导方法的三维厚胶光刻工艺仿真
无论是在微机电系统（MEMS）还是集成电路（IC）领域，SU-8厚胶光刻已经成为制造高深宽比结构的主流工艺。为了取代昂贵而耗时的光刻实验，一套能够良好预测显影形貌，从而为优化光刻制造提供有效帮助的光刻仿真软件就成为必要而有价值的工具。基于严格电磁场波导法的理论，给出一种针对 SU-8光刻胶在紫外光下的三维光刻仿真模型。利用该模型，能很好地预测显影后的光刻胶内光强分布和立体形貌。并完成了一系列仿真和实验结果来验证模型的有效性。仿真结果给出横截面光强分布图和显影立体形貌模拟图形，并与相应的实验结果进行对照。结果验证了本文提出的仿真模型的正确性，并且表明三维混合模型在保证精确性的前提下，较之其他仿真算法运算速度更快。
光刻仿真、微机电系统、波导、光强分布
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TN305.7(半导体技术)
supported by the Natural Science Foundation in Jiangsu Province BK2012324
2016-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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064102-1-064102-5
