工业X光二极管重复频率实验研究
工业 X 光二极管型“单焦点”高重复频率闪光 X 光机在科学研究、工业检测等领域具有重要应用前景。基于光导开关脉冲驱动源开展了金属阴极工业 X 光二极管重复频率运行实验，采用烘烤处理方法研究阴极表面吸附特性对重复频率发射特性的影响；以二极管阻抗模型为理论基础，通过重复频率实验获得的二极管电压维持时间和阻抗特性分析等离子体扩散过程。研究表明：对于高阻抗结构工业 X 光二极管，金属阴极为表面吸附杂质或气体解吸附形成等离子体发射机制，一次放电后阴极表面对气体的再吸附过程限制了其在高重复频率条件下的电流发射能力，同时由于阴极等离子体扩散过程变慢使得二极管电压脉宽变长。具有高重复频率电流发射能力的阴极是发展“单焦点”重复频率 X 光机的基础。
闪光 X 光机、工业 X 光二极管、金属阴极、电子发射机制、重复频率
TM836(高电压技术)
国家自然科学基金项目51207147,51477185,51407110;中国工程物理研究院科学技术发展基金项目2014B0402059
2016-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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025007-1-025007-5
