玻璃衬底二氧化钒薄膜的宽频带太赫兹波调制特性
针对二氧化钒(VO 2)薄膜在可调谐太赫兹功能器件中的应用,采用磁控溅射法在 K9玻璃衬底上制备了 VO 2薄膜,并用 X 射线衍射(XRD)对薄膜的晶相进行表征。利用配备加热装置的太赫兹时域光谱系统(THz-TDS)研究了薄膜样品在变温过程中的 THz 反射、透射光谱特性及其变化规律。实验结果表明,随着加热温度的升高,VO 2薄膜发生半导体-金属相变并对宽频段 THz 波产生显著的调制作用。调制深度明显依赖于 THz 频率,薄膜样品对 THz 波反射功率、透射率的幅度调制深度在0.3~0.5 THz 范围波动较大;对THz 波的透射率在低频处较大,高频处较小,调制深度在35%~65%之间变化。该薄膜制备简单,质量高,可应用于太赫兹开关和调制器等功能器件。
二氧化钒、太赫兹、THz 时域光谱系统、调制
TB43(工业通用技术与设备)
光电探测与传感集成技术教育部重点实验室开放基金项目KFJJ201302
2016-04-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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