激光烧蚀CH薄膜特性
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10.3788/HPLPB20132512.3145

激光烧蚀CH薄膜特性

引用
报道了神光Ⅱ装置上激光膜相互作用的实验,实验利用能量计和光电管测量激光与CH薄膜作用前后的能量和时间波形的变化.结果表明:激光对CH薄膜透过率由作用产生的激光等离子体电子密度决定;功率密度为1.0×1014 W/cm2的激光与CH薄膜作用下,入射激光能量脉冲前沿与薄膜作用产生激光等离子体;在200 ps时,激光等离子体电子密度稀疏到临界密度以下,激光开始透过等离子体;在700 ps后,等离子体密度远低于临界密度,激光完全透过激光等离子体.

激光等离子体、临界密度、透过率

25

O531(等离子体物理学)

2014-01-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

3145-3147

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25

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