碳化硼薄膜的激光法制备及性能
采用KrF准分子激光器,在Si,Ge光学衬底上制备了碳化硼薄膜,研究了不同激光能量、靶材与衬底距离、衬底负偏压等条件对薄膜性能的影响.利用傅里叶变换红外光谱仪(FT IR)和纳米压痕仪,并依据光学薄膜测试的通用标准,对样品的光学透过率、纳米硬度及膜层与衬底的结合性能进行了测试.结果表明:Si,Ge衬底单面镀碳化硼薄膜后最高透过率提高10％以上,纳米硬度提高到未镀膜的3倍以上,且膜层与衬底有较好的结合性能,表明制备的碳化硼薄膜可对光学材料起到较好的增透保护作用.
激光沉积、碳化硼薄膜、透过率、硬度、增透膜
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TN24(光电子技术、激光技术)
2013-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）
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