材料表面处理用强流电子回旋共振离子源

摘要：

介绍一台2.45 GHz永磁强流电子回旋共振离子源,其外径160 mm,高90 mm,放电室直径70mm,高50 mm.微波馈人采用介质耦合方式,微波窗由一块φ50 mm×10 mm柱形BN和两块φ30 mm×10mm的柱形陶瓷构成.离子源工作在脉冲模式下,采用三电极引出系统,最高引出电压达到100 kV,在微波输入功率300 W、进气量0.4 mL/min时,可引出峰值超过30 mA的氮离子束,在距离离子源引出孔1200mm位置处的束流均匀区直径大于200 mm.

关键词：电子回旋共振离子源、微波窗、表面处理、引出系统

所属期刊栏目：24

分类号：TL503.3(加速器)

在线出版日期：2013-01-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：2911-2914