湿法和溶脱法的亚微米ZnO:Al光栅制备
以激光干涉法得到的光刻胶图案为掩模,采用湿法刻蚀和溶脱-剥离法制备了具有良好减反射特性的亚微米掺铝氧化锌(ZnO:Al,AZO)光栅.表面形貌特征和反射光谱测试结果表明,湿法刻蚀较溶脱-剥离法得到的AZO光栅表面更为粗糙,两者均方根粗糙度分别为25.4,7.6 nm.在400~900 nm波段,两种方法制备的周期和高度相同的光栅,平均总反射率分别由AZO薄膜的12.5%下降到8.3%和10.2%.两者的平均镜面反射率分别为6.2%和6.6%,平均漫反射率分别为2.1%和3.6%.湿法刻蚀得到的表面较为粗糙AZO光栅的漫反射明显减弱,从而导致总的减反特性优于溶脱-剥离法得到的表面起伏相对较小的AZO光栅.
亚微米光栅、掺铝氧化锌、激光干涉法、湿法刻蚀、溶脱-剥离法
24
O436.1(光学)
国家自然科学基金项目10576021,60977028;上海市重点科研基金项目09JC1413800
2013-01-09(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
2613-2617