激光预处理中缺陷上的激光能量覆盖
分析了不同预处理方式下缺陷上的激光能量的覆盖特点.理论分析表明,相同预处理效率下,单步预处理缺陷上激光能量覆盖率优于多步预处理.实验研究了电子束蒸发制备的HfO2/SiO2多层高反膜的激光预处理,结果发现单步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值比相同效率的4步预处理后薄膜的单脉冲激光损伤阈值要好.采用最高能量密度为112%激光损伤阈值的5步预处理后,光学薄膜的激光损伤阈值提高了83.5%.
激光预处理、缺陷、能量覆盖、高反射膜
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TN249(光电子技术、激光技术)
2012-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
1385-1390