多光束激光干涉光刻图样
利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素.研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加;相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,图样也随之变化.
微纳结构、纳米制造、激光干涉光刻、激光干涉图样
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TN305.7(半导体技术)
国家自然科学基金项目11074181;江苏省高校优势学科建设工程资助项目;中国科学院SAFEA创新研究国际合作团队及欧盟第七研究框架LaserNaMi项目247644
2012-05-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
3157-3162