多光束激光干涉光刻图样

摘要：

利用电磁理论,研究了多光束激光干涉图样的产生原理,结合计算机数值模拟和相关实验结果,分析了干涉图样的影响因素.研究结果表明:多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的叠加；相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素,改变这些因素,余弦分布的平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化,图样也随之变化.

关键词：微纳结构、纳米制造、激光干涉光刻、激光干涉图样

所属期刊栏目：23

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金项目11074181;江苏省高校优势学科建设工程资助项目;中国科学院SAFEA创新研究国际合作团队及欧盟第七研究框架LaserNaMi项目247644

在线出版日期：2012-05-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：3157-3162