电解抛光法制备金属钨箔膜

摘要：

研究了在硫酸甲醇体系中进行电解抛光制备状态方程(EOS)靶用钨薄膜.分析了钨的阳极极化曲线,对薄膜的表面形貌、晶粒取向、密度和厚度一致性进行了测试和分析,并制备出均方根粗糙度小于50 nm、厚度一致性好于99%、能够保持原材料密度的钨箔膜,满足激光驱动材料高温高压状态方程研究的标准靶材料的需求,证明电解抛光是制备低表面粗糙度、块材密度的EOS所用金属箔材的有效手段.

关键词：电解抛光、钨箔膜、粗糙度、厚度一致性

所属期刊栏目：22

分类号：O646.6(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家高技术发展计划项目

在线出版日期：2010-05-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：311-314