不同工艺制备的高反射薄膜在真空与大气环境下的激光损伤特性

摘要：

建立了光学元件在真空环境下的激光损伤测量系统,采用电子束蒸发和离子辅助技术制备了HfO_2/SiO_2高反射薄膜.对不同工艺制备的薄膜在真空与大气环境下的1 064 nm波长的激光损伤阈值进行了测量,对薄膜的损伤形貌进行了观测.对薄膜的损伤特性研究分析结果表明:薄膜在真空环境中的损伤阈值相对大气环境中有明显下降,其1∶1测试和R∶1测试损伤阈值下降约30%;两种环境中的薄膜损伤特性也不同,真空环境中损伤阈值的下降可能与热传导的不同有关.

关键词：薄膜光学、激光损伤、大气环境、真空环境、高反射薄膜

所属期刊栏目：21

分类号：O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2010-01-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1829-1832