LaB6场发射阵列牺牲层制备工艺

摘要：

分析了传统牺牲层材料铝在制备LaB6场发射阵列时存在的问题,利用溅射及热蒸发工艺依次制备铝膜和氧化锌膜,制备出了一种新型的牺牲层--ZnO-Al复合牺牲层,并对所制备的阵列进行了测试.实验结果表明:ZnO-Al复合牺牲层能够有效地解决电化学腐蚀的问题,所制备出的LaB6场发射阵列尖锥保持了完好的形貌,其发射特性也达到了最初制备场发射阵列的要求,说明ZnO-Al复合牺牲层是作为LaB6场发射阵列牺牲层的理想材料.

关键词：六硼化镧、场发射、牺牲层、溅射、ZnO-Al

所属期刊栏目：21

分类号：TN105(真空电子技术)

资助基金：国防科技基础研究基金

在线出版日期：2009-07-29（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：923-926