多层介质膜光谱调制反射镜的反应离子束刻蚀误差容限

摘要：

在千焦拍瓦高功率放大系统设计中,激光脉冲的时空和光谱整形技术一直受到人们的广泛关注.利用反应离子束刻蚀等微纳超精细加工而成的多层电介质结构反射镜可在高功率条件下实现啁啾脉冲的光谱整形.在光谱整形介质结构反射镜的设计与制造中,需要根据要求的反射率来合理提出反应离子束刻蚀误差容限指标.推导出反应离子束刻蚀误差容限的解析表达式.针对神光Ⅱ千焦拍瓦高功率放大系统设计中提出的多层介质光谱调制反射镜,分析了调制结构反射镜各层加工的容许误差,确定了反应离子束刻蚀误差容限指标.研究表明:刻蚀高折射率介质的加工误差容限为35 nm;刻蚀低折射率介质的加工误差容限为62 nm.此外,还从使用需要和加工难易的角度,对刻蚀方案进行了讨论.就加工难易程度而言,优选反应离子束刻蚀方案,且采用刻蚀并残留低折射率介质的方案更容易实现.

关键词：光学器件、光谱整形、多层介质膜光谱调制反射镜、微纳超精细加工、误差容限

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分类号：O436(光学)

资助基金：国家高技术发展计划项目;四川省青年科技基金项目05ZQ026-013;教育部新世纪优秀人才支持计划NCET-05-0784

在线出版日期：2009-06-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：761-766