退火温度对溅射铝膜结构与电性能的影响

摘要：

采用直流磁控溅射方法成功地制备了Al膜,研究了退火温度对Al膜表面形貌、晶体结构、应力、择优取向及反射率的影响.研究表明:不同退火温度的薄膜晶粒排布致密而光滑,均方根粗糙度小.XRD测试表明:不同温度退火的铝膜均成多晶状态,晶体结构为面心立方,退火温度升高到400 ℃时,Al膜的应力最小达0.78 GPa,薄膜平均晶粒尺寸由18.3 nm增加到25.9 nm;随着退火温度的升高,(200)晶面择优取向特性变好.薄膜紫外-红外反射率随着退火温度的升高而增大.

关键词：Al膜、退火温度、应力、择优取向、反射率

所属期刊栏目：20

分类号：O84.5

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2008-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：155-158