高反射率Mo/B4C多层膜设计及制备

摘要：

运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构.入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%.采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜.通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力.另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm, Mo膜厚1.97 nm, B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%.制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%.最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm.

关键词：软X射线、Mo/B4C多层膜、遗传算法、直流磁控溅射、应力、反射率

所属期刊栏目：20

分类号：TN246(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划;国家自然科学基金10435050;10675091

在线出版日期：2008-05-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：67-70