Zn离子注入和退火对ZnO薄膜光学性能的影响

摘要：

利用溶胶凝胶方法在石英玻璃衬底上制备了ZnO薄膜,将能量56 keV、剂量1×1017 cm-2的Zn离子注入到薄膜中.离子注入后,薄膜在500～900 ℃的氩气中退火,利用X射线衍射谱、光致发光谱和光吸收谱研究了离子注入和退火对ZnO薄膜结构和光学性质的影响.结果显示:衍射峰在约700 ℃退火后得到恢复;当退火温度小于600 ℃时,吸收边随着退火温度的提高发生蓝移,超过600 ℃时,吸收边随着退火温度的提高发生红移;近带边激子发光和深能级缺陷发光都随退火温度的提高而增强.

关键词：ZnO薄膜、离子注入、退火温度、吸收、光致发光

所属期刊栏目：19

分类号：O484.41(固体物理学)

资助基金：教育部高等学校博士学科点专项科研基金20050614013;教育部跨世纪优秀人才培养计划NCET-04-0899

在线出版日期：2008-04-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1918-1922