回旋速调管双阳极磁控注入电子枪的设计与优化
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回旋速调管双阳极磁控注入电子枪的设计与优化

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根据8 mm回旋速调管放大器对双阳极磁控注入电子枪的要求,分析了电极形状、阳极电压、磁场、注电流对电子注横纵速度比和速度零散的影响,并进行了粒子模拟.分析表明:这些因素可归根为电场和磁场的作用,阴极附近高的电场有助于提高横纵速度比和降低速度零散;而高的磁场及低的磁压缩比将降低横纵速度比,但对速度零散影响无明显规律.在此基础上通过优化电极形状、磁场分布、电流、第一阳极电压和第二阳极电压,模拟并试制出工作电压65 kV、电流12 A、磁场1.4 T的双阳极电子枪,得到的横纵速度比值为1.4,横向速度零散为4.5%, 为8 mm回旋速调管提供了稳定高质量的电子注.

高功率微波、回旋速调管放大器、磁控注入电子枪、横纵速度比、速度零散

19

TN722(基本电子电路)

国家高技术研究发展计划863计划

2007-07-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共5页

951-955

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