SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

摘要：

利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨.实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力.

关键词：LiB3O5、SiO2内保护层、倍频增透膜、激光损伤阈值、损伤形貌

所属期刊栏目：19

分类号：TB43;O484.4(工业通用技术与设备)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2007-06-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：603-606