磁场分布曲线对高功率回旋管磁控注入枪影响的分析
万方数据知识服务平台
应用市场
我的应用
会员HOT
万方期刊
×

点击收藏,不怕下次找不到~

@万方数据
会员HOT

期刊专题

磁场分布曲线对高功率回旋管磁控注入枪影响的分析

引用
数值模拟了不同的磁场分布对回旋管磁控注入电子枪性能的影响.其中,共选择了3种电子枪区域的轴向磁场分布:正弦磁场、二次磁场和双曲正切磁场.由于前两类磁场在阴极区有一个恒定区域,故研究了此区域长度对电子枪性能的影响,找到使电子注具有较好性能的恒定区域的最佳长度;对于第三种磁场则研究了阴极区域磁场倾角对电子枪性能的影响,并找到了可以使电子注的速度比较大,而速度零散较小的稳定的最佳倾角分布区间.

磁控注入枪、磁场分布曲线、数值模拟、优化、最佳长度、最佳倾角区间

15

TN125(真空电子技术)

国家高技术研究发展计划863计划

2004-02-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

1233-1236

相关文献
评论
暂无封面信息
查看本期封面目录

强激光与粒子束

1001-4322

51-1311/O4

15

2003,15(12)

相关作者
相关机构

专业内容知识聚合服务平台

国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”

国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304

©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1

信息网络传播视听节目许可证 许可证号:0108284

网络出版服务许可证:(总)网出证(京)字096号

违法和不良信息举报电话:4000115888    举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn

举报专区:https://www.12377.cn/

客服邮箱:op@wanfangdata.com.cn