氧化物激光薄膜的离子束溅射制备技术

摘要：

研究了由Ta2O5和SiO2组成的多层氧化物激光薄膜的双离子束溅射制备工艺.简要介绍了离子束溅射技术的基本工作原理和应用,着重分析了薄膜厚度均匀性的调控方法.先后得到了Ta2O5和SiO2单层薄膜厚度均匀性调控结果以及不同波长处薄膜折射率,并定性地分析比较了离子束溅射和电子束蒸发制备的薄膜结构;制备并测试了633nm,1 315nm反射薄膜以及增透膜.结果表明:采用离子束溅射技术能够制备出优良的、满足需要的激光高反射薄膜元件.

关键词：离子束溅射、厚度均匀性、激光高反射薄膜、增透膜

所属期刊栏目：15

分类号：TN244;O484(光电子技术、激光技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划

在线出版日期：2004-02-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：1175-1180