用1064nm激光增强HfO2/SiO2薄膜的抗激光损伤能力的实验研究

摘要：

用1 064nm激光实验研究了HfO2/SiO2薄膜的激光损伤增强效应,实验以薄膜激光损伤阈值70%的激光能量开始,采用N-ON-1方式处理薄膜,激光脉冲的能量增量为5J/cm2.实验结果表明,激光处理薄膜表面能使激光损伤阈值平均提高到3倍左右,并且薄膜的损伤尺度也明显减小.对有缺陷的薄膜,其缺陷经低能量激光后熔和消除,其抗激光损伤能力得到增强,但增强得并不显著,而薄膜本身的激光预处理,可以使其激光损伤阈值大大提高.

关键词：激光损伤、激光预处理、HfO2/SiO2高反膜

所属期刊栏目：15

分类号：TN246(光电子技术、激光技术)

资助基金：国防科技应用基础研究基金

在线出版日期：2004-04-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1053-1056